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Arbeitsgeräte

Die Arbeitsgruppe verfügt über 3 ToF-SIMS/Laser-SNMS-Geräte, die im Institut konzipiert, gebaut und aus Drittmitteln finanziert wurden. Mit diesen Geräten können folgende Spezifikation erreicht werden:

  • Massenauflösungen von m/Δm > 10.000 für ToF-SIMS
  • Massen bis zu 10.000 u, Massengenauigkeiten im Bereich von einigen ppm
  • Ortsauflösungen bis zu 80 nm
  • Empfindlichkeiten im ppb- bzw. attomol-Bereich
  • Möglichkeiten zur Kombination mit präparativen und anderen oberflächenanalytischen Methoden

Für die Photoionisierung stehen unterschiedliche Lasersysteme zur Verfügung, die je nach Anwendungsziel für verschiedene Nachionisationsprinzipien, wie z.B. die nichtresonante Multiphotonen-Ionisierung oder die Einphotonen-Ionisierung eingesetzt werden können.

ToF-SIMS 1

Primärionenquellen: Flüssigmetallionenquelle, Sputterquelle
Massenspektrometer: Reflektron-Flugzeitmassenspektrometer

TOF-SIMS E1

ToF-SIMS 2

Primärionenquellen: Flüssigmetallionenquelle, Sputterquelle
Massenspektrometer: Reflektron-Flugzeitmassenspektrometer
Zusatzausstattung: heiz- und kühlbarer Probenhalter

TOF-SIMS I1

Kryo-ToF-SIMS/Laser-SNMS

Primärionenquellen: Bi-Nanoprobe Flüssigmetallionenquelle, Gas-Cluster-Ionenquelle
Massenspektrometer: gitterloses Flugzeitmassenspektrometer mit erweitertem Dynamikbereich (EDR)
Lasersysteme: 193 nm Excimer-Laser für überwiegend nichtresonante Multiphotonen-Ionisierung (NRMPI)
                      157 nm Excimer Laser für überwiegend Einphotonen-Ionisierung (SPI)
Zusatzausstattung: heiz- und kühlbarer Probenhalter, in-Vakuum Kryo-Schnittmaschine zur Präparation
                             von gefrorenen, nicht-dehydrierten Probensystemen für die massenspektrometrische
                             Analyse

Kryo-SIMS



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