Obwohl Ionenstrahltechniken seit langem in verschiedensten Bereichen der Festkörperphysik und Halbleitertechnik etabliert sind, wurde erst vor kurzem das Potential solcher Techniken für die gezielte Beeinflussung der Topograhie von Oberflächen auf der Nanometerskala erkannt.

In dem Vortrag sollen zwei Aspekte näher beschrieben werden. Das ist zum einen die Erzeugung von geordneten Nanostrukturen durch Selbstorganisationsprozesse während des Beschusses mit Ionen. Als Folge des durch die Ionen hervorgerufenen Erosionsprozesses können verschieden geformte Nanostrukturen wie Nanokegel oder Ripples entstehen. Zum anderen ist es aber auch möglich extrem glatte Oberflächen durch einen gezielten Ionenbeschuss präparieren. Entscheidend ist dabei das Wechselspiel verschiedener auf der Nanoskala ablaufender Prozesse die sowohl zur Aufrauung (z. B. Veränderung der Erosionsgeschwindigkeit mit der lokalen Krümmung der Oberfläche) als auch Glättung (z. B. ballistischer Materialtransport) der Oberfläche beitragen können. Neben den zugrundeliegenden physikalischen Mechanismen sollen auch mögliche Anwendungen aus verschiedenen Bereichen diskutiert werden. Voraussetzung für diese Anwendungen ist die Verwendung geeigneter großflächig arbeitender Breitstrahlionenquellen, die eine effiziente Bearbeitung makroskopisch ausgedehnter Flächen (cm² ... m²) gestatten.